上半年写了181篇笔记,21篇是与市场相关的,160篇与技术关联整理成册,惯例把技术类的内容做个分类,以便备查
几个会议类总结:
第30-39页,ECOC2021的梳理
第321-326页,OFC2022梳理,这个梳理非常非常的粗,只用了5页篇幅,另外还有一个299页篇幅的单独册子收纳了590页PPT,那个比较全。
第333-336页,是2022光芯片的几个技术重点,是一个总结性文字。
其他细类
光模块类(800G、相干、CPO...)
光器件类
光芯片类(激光器、探测器、调制器、硅光集成)
■ 光模块--编码
364-369页,光做为载波,调制速率与带宽和眼图的关系
308-310页,光眼图中的“噪声”体现在什么地方
25-28页,相干星座图与频偏的理解
385-390页,DPSK编码原理
23-25页,华为对于400G相干编码PCS-16QAM和QPSK的选择
28-30页,相干模块的波长复用密集度,以及波特率提升后需要拉长波长间隔
53-55页,二氧化硅PLC相干接收、InP相干接收与硅光相干接收的材料与性能之间的关系
390-393页,解释相干如何放大
357-360页,COSA与TROSA的区别和相同点
■ 光模块--相干模块
204-206页,OFC展出的几个400G ZR模块的厂家汇总
273-275页,400GZR/ZR+的通信试验
379-382页,Acacia 1.6T相干模块内部结构
■ 光模块--DSP
226-230页,Inphi关于800G DSP的发展路线
173-177页,区别CDR与DSP的功能
221-226页,高频DSP的焊点要缩短间距,才能适应高带宽连接
314-316页,高频DSP的焊点工艺
50-53页/314-316页,华为对于50G PON的发展趋势和采用DSP的论证
■ 光模块--IM/DD高速模块
275-278页,II VI对于800G以太网模块的观点
209-211页,Intel的800G 2xFR4模块
190-193页,武汉邮电科学院/光迅,对于800G中采用单波200G的观点
438-443页,单波112G的电信号金手指与接触簧片
396-400页,较为通俗的解读了一下“高速”的改变,并不是指传输速度更快
374-379页,SERDES、GearBox和电信号的MUX/DeMUX的一致性
■ 光模块--CPO(合集2022上只写了一点CPO,在OFC PPT汇编中CPO的收纳更全)
290-293页,热插拔、OBO与CPO的封装演变
189-190页,CPO MSA的更新
197-201页,用于CPO的光电同口激光器光源的标准化
142-144页,下一代通信是否选择CPO封装
206-209页,Ranovus的CPO
201-204页/278-281页,II VI对于CPO的观点以及CPO demo
153-157页,博通CPO
219-221页/193-197页/101-102页,Juniper CPO相关技术
250-252页,康宁CPO的玻璃基板
■ 光模块--5G类
180-181页/185-187页,MWDM与LWDM的四波混频风险,环形器的CWDM方案。
今年这一块写的非常少
■ 光模块--集成光学/硅光集成
432-436页,第一个集成电路
436-438页,第一个集成光路的概念
39-43页,InP集成与硅光集成的优缺点
■ 光模块--集成光学的三维封装
405-407页
379-382页
121-132页
59-62页
293-297页
407-411页
64-65页
415-419页
43-46页
250-252页
■ 光模块--硅光集成&光学材料与工艺
SSC硅光模场转换技术
236-238页,旭创的非悬空波导(悬空波导在另一册)
132-135页,台积电
102-105页,IMEC
115-116页,悬空波导的焊接工艺
光学器件的不同材料的工艺
448-454页,硅光集成中单晶硅与多晶硅工艺443-448页/287-289页,硅光集成中氮化硅工艺135-137页,硅光集成中锗的外延工艺
411-415页,硅光集成的厚硅工艺
419-425页,激光器与探测器的主要材料
105-107页,InP的化学生成工艺111-113页/116-119页/177-180页,硅光集成中三五族材料,ART工艺,斜切/正切工艺,硅基异质激光器材料体系变化。
■ 光学芯片--激光器-原理
238-245页,激光器二极管LD是放大器、SOA是放大器,RSOA,Gain、SA这些概念的区分。
99-101页/119-121页,激光器的输出偏振;
84-88页,激光器发散角与波导宽窄的关系
■ 光学芯片--激光器-VCSEL
248-250页,VCSEL与多模光纤的模式带宽,通俗解读
252-255页,区分单模/多模/少模光纤,及主要场景
170-173页,单模激光器与多模光纤的互相适配
259-261页,多结VCSEL
304-308页,高密度的VCSEL阵列,传输50G*16通道,共计800Gbps
163-164页,单波112Gbps VCSEL
■ 光学芯片--激光器-高速DFB(含啁啾管理)
88-91页,DFB的光栅及K因子
326-330页,高阶表面光栅
425-429页,112G 亚微米脊型宽度的DFB激光器
22-23页,两段式啁啾管理112G激光器
429-432页,微环滤波器的啁啾管理激光器
17-22页/47-50页,激光器阵列,及激光器阵列的应用
137-140页,旭创硅光混合集成外腔直调微环激光器
193-197页,Juniper硅光混合集成三五族激光器
■ 光学芯片--CW DFB激光器
167-168页/211-215页,Lumentum用于CPO或硅光调制器的大功率光源
313-314页,实光用于PLC耦合的三阶光场SSC
■ 光学芯片--CW 多波长激光器
62-64页:Ranovus多波长激光器原理
65-82页/109-111:多波长激光器的几个主要类型
161-163页:HPE 多波长激光器
316-348页:根特大学/IMEC的多波长激光器
347-348页:AWG做谐振腔的多波长激光器
157-160页/454-460页/335-357页/215-217页:Intel 多波长激光器
■ 光学芯片--窄线宽波长可调谐激光器
46-47页,波长可调谐的大功率与小功率的应用场景
55-59页,三菱窄线宽激光器
360-364页,上海交大氮化硅混合集成激光器
■ 光学芯片--激光器-EML
181-185页/144-147页,Lumentum的单波200G EML芯片,及驱动芯片设计
168-170页,博通200G EML
310-311页,HHI 200G EML
230-232页,用LC谐振电路做EML带宽峰化。
■ 光学芯片--调制器--铌酸锂类
97-99页,铌酸锂调制器的电光系数
281-285页,富士通铌酸锂调制器
147-149页,华中科技大学铌酸锂调制器
336-341页,中山大学铌酸锂类调制器、偏振控制、偏振旋转...
341-344页,清华大学薄膜铌酸锂控制器的极性控制
255-259页,哈佛大学的铌酸锂调制器
401-405页,ETHZ薄膜铌酸锂调制器
■ 光学芯片--调制器--聚合物类
344-347页,诺基亚贝尔实验室 15微米长的MZ调制器
15-17页,ETHZ聚合物调制器
■ 光学芯片--调制器--硅光类--MZ型
164-165页,华为67GHz纯硅调制器
330-331页,北大110G慢光纯硅调制器
319-321页,UCSB超低功耗硅基三五族调制器
302-304页,ETHZ 悬空波导MEMS控制的硅光调制器
■ 光学芯片--调制器--硅光类--微环型
165-167页/149-153,Intel微环调制器和驱动器芯片
355-357页,为何Intel的光源不做大功率来支持多个调制器的应用?
232-236页,HPE超低功耗微环调制器
82-84页,微环与直波导的耦合效率
■ 光学芯片--调制器--硅光类--电吸收调制
266-270页,NTT的硅基强限制电吸收调制器
101-102页,Juniper硅基三五族电吸收调制器
160-161页,武邮硅基锗电吸收调制器
■ 光学芯片--探测器
348-350页,APD破坏功率阈值筛选方法
311-313页,APD和雪崩层和吸收层分开设置的原因
264-266页,住友100G 波导型APD
285-287页,HPE纯硅APD,Intel PIN纯硅探测器
187-189页,用于50G PON APD
5-8页,垂直结构的锗硅APD
■ 光器件封装/可靠性等
抗反射处理
369-374页,光纤8度角设计
382-385页,MPD的斜贴抗反射处理
393-396页,AOI的前光与背光MPD区分
107-109页,天孚小角度分光滤波设计
354-355页,隔离套、透镜、光纤等无源器件的光功率损伤阈值
350-354页,Finisar的一种透镜组装方法
8-11页/11-15页,晶体的偏振分束棱镜
可靠性GR468的翻译,单独做了视频解析,也有一个文字版的译本,2022合集涉及到这个议题的就比较少了,297-302页/91-93页/140-142页,其中激活能的概念以及计算方法可以看一看。
仅仅汇总上半年160篇,快打字打疯了。写了八年今天是第2442篇笔记,在《光模块、光器件、光芯片》这个系列解析里,尽量按系统性的逻辑链来解释光模块。
并在技术解析中,与细分领域的市场发展趋势来聊一聊产业化进程,8月份安排可详询我同事18140517646